Nordson EFD lança sistema de jateamento para aplicações de display eletrônico
A Nordson EFD apresenta o sistema de jateamento piezoelétrico Pico XP, projetado para manter a distribuição de válvula a válvula de fluido precisa, repetível e sem contato, após a manutenção, e independentemente de fatores externos, como mudanças de temperatura.
“Esta é de longe a nossa tecnologia de jateamento mais avançada e inovadora até o momento”, diz Claude Bergeron, gerente sênior global de Linha de Produto na Nordson EFD. “Projetamos este sistema especificamente para solucionar os problemas que os fabricantes enfrentam em suas linhas de produção, especialmente em aplicações de display eletrônico.”
Muitas vezes, os fabricantes percebem mudanças no desempenho de dispensação em aplicações onde é fundamental que a quantidade correta de adesivo, selante e revestimento sempre seja aplicada de forma consistente para que possam atender às exigências do consumidor.
Nestas aplicações, mesmo uma ligeira mudança na geometria interna da válvula pode afetar a repetibilidade do depósito de fluido. É por isso que uma válvula pode gerar resultados de dispensação ligeiramente diferentes de outra com os mesmos ajustes de dispensação. Também é por isso que pode haver uma leve mudança nos resultados de dispensação depois que o corpo de fluido da válvula é removido, limpo para manutenção e devolvido à válvula.
A calibração autorreguladora exclusiva do sistema de jateamento controla as variações na tolerância do corpo de fluido para manter a mesma repetibilidade de microdispensação de válvula a válvula e após a manutenção.
Sua busca de alvo de curso sustentado exclusivo permite que ele se autoajuste para manter o seu ajuste de curso de nível de mícron (µm) por longos períodos, independentemente das condições ambientais, como mudanças de temperatura que podem alterar os resultados da distribuição ao longo do tempo.
O sistema inclui uma válvula de jato Pico Pµlse XP e o controlador Pico Toµch XP com uma interface de tela de seleção por toque intuitiva para uma configuração simplificada. Ele pode aplicar microdepósitos tão pequenos quanto 0,5 nL, em velocidades de até 1.000 Hz (depósitos por segundo) continuamente.
O mecanismo de fecho de liberação rápida da válvula permite a remoção sem ferramentas do corpo do fluido para a limpeza simplificada do trajeto do fluido, o que economiza o tempo dos fabricantes durante a manutenção. Além disso, a válvula pode ser equipada com vários corpos de fluidos, disponíveis com propriedades e tamanhos de orifícios diferentes para atender aos requisitos de aplicações versáteis e exclusivas dos fabricantes.
